특허청은 지난 21일 중국 북경에서 중국 국가공상행정관리총국과 ‘제4차 한-중 상표 분야 청장급 회담’을 개최했다고 23일 밝혔다.
최동규 특허청장과 류준첸 중국 공상행정관리총국 부국장이 참석한 이번 회담에서는 한·중 FTA 발효 이후 처음으로 열린 상표분야 최고위급 회담으로 양국은 악의적 상표선점, 위조품 등 주요 현안에 대한 협력방안을 논의했다.
우선 모방상표 등록 방지를 위한 선제적 협력 방안에 합의했다.
또 모방상표가 심사단계에서 걸러지지 않았더라도 이의신청 중 정보공유를 통해 등록을 방지하는 사후적 협력체계도 마련하기로 했다.
한·중 상표 당국은 이러한 정보공유를 조속히 구현하기 위해 모방상표를 손쉽게 검색하고, 이를 신속히 통보할 수 있는 시스템을 구축하는 방안에 대해 협의하기로 했다.
특허청은 이러한 시스템이 구축되기 전까지는 중국에서 모방한 것으로 의심되는 상표 리스트를 주기적으로 중국 당국에 제공할 방침이다.
최동규 특허청장은 “중국과의 상표 분야 협력은 우리 기업의 경쟁력 강화와 해외 진출 확대를 위해 특허청이 우선순위를 두고 추진하는 분야”라며 “이번 회담을 통해 확인된 중국의 지재권 보호 의지와 상호신뢰를 바탕으로 양국의 기업들이 안심하고 활동할 수 있는 환경을 조성해 나갈 것”이라고 강조했다.
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