|
대만 연합보는 1일 소식통을 인용해 TSMC의 내년 자본지출(설비투자)이 320억~360억달러(약 44조2240억~49조7520억원)에 이를 것으로 예상된다고 보도했다. 이는 올해 280억~320억달러(약 38조6960억~44조2240억원)보다 12.5~14.3% 증가한 수준이다. 2022년(362억 9000만달러)에 이어 역대 두 번째로 많은 규모다.
이는 2나노 등 첨단 공정과 관련한 연구개발(R&D) 비용이 계속 늘어나고 있는 데다, 2나노 대한 수요가 예상보다 강해 TSMC가 공정을 업그레이드 하고자 생산설비를 도입하기 위한 것이라고 소식통은 전했다. TSMC는 내년부터 2나노 공정에서 반도체 양산에 나설 계획이다.
최근 AI 열풍으로 애플, 엔비디아, AMD, 미디어텍 등 많은 고객사들이 TSMC의 2나노 공정 제품을 채택하는 방안을 적극 고려하고 있는 점 역시 투자 확대의 배경으로 꼽힌다.
소식통은 그러면서 “TSMC가 북부 신주과학단지 바오산 지역과 남부 가오슝 난쯔과학단지 등 대만 전역에 최소 8개의 2나노 공장을 배치할 계획”이라고 덧붙였다. 지난달 26일에는 대만 가오슝시가 TSMC의 2나노 공정 세 번째 공장 건설을 승인했다.
TSMC는 내년 투자 드라이브와 직접적인 언급은 피했다. 설비투자 등은 지난 4월 발표한 내용을 기반으로 추진할 것이라는 기존 입장을 되풀이했다.
이에 따라 내년 2나노 공정을 두고 파운드리 혈투가 벌어질 것이라는 관측이 나온다. 업계 2위인 삼성전자는 1나노대 등에서 무리한 나노 경쟁 대신 2나노 공정 승부수에 나서겠다는 복안이다. 최근 ‘삼성 파운드리 포럼 2024’에서 2나노 공정에 후면전력공급 기술(BSPDN)을 도입해 완성도를 높이겠다는 의지를 내보인 게 대표적이다. BSPDN은 전류 배선층을 웨이퍼 앞면이 아니라 후면에 배치해 전력과 신호 라인의 병목 현상을 개선하는 기술을 말한다.
2나노부터 TSMC와 삼성전자(005930) 모두 GAA 기술을 도입하는 점 역시 관심이 모아진다. 삼성전자는 앞서 3나노 1세대 공정부터 GAA 기술을 채택했다.