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일본 경제산업성은 이날 한국에 수출되는 포토레지스트(감광제)를 특정포괄허가 대상으로 변경하는 포괄허가취급요령 일부 개정령을 공시했다. 개정령은 공시 즉시 시행된다.
이번 개정령으로 포토레지스트에 대한 수출 규제가 지난 7월 이전 수준으로 돌아가는 것은 아니다. 여전히 수출 건 건마다 개별 심사를 받아야 하고 심사 서류도 복잡하다.
다만, 한번 허가를 받을 경우, 이전에는 인정 기간이 반년에 불과했지만 3년으로 늘어난다. 일본 기업이 지속적으로 거래하는 상대에 대해서는 허가 기간을 늘려주는 셈이다.
레지스트는 반도체 기판 위에 도포해 특수광선을 쪼아 반도체 패턴을 만드는 데 쓰이는 반도체 핵심소재이다. JSR이나 도쿄오카공업 등 일본 업체가 시장 점유율 90%를 차지한다.
경제산업성은 이번 규제 완화 이유에 대해 “수출 실적이 쌓였기 때문”이라고 설명했다. 포토레지스트는 지난 7월 규제가 강화된 이후 처음으로 수출 허가가 나온 품목이지만, 이후 어느 정도 수출 실적이 쌓였는지는 공표된 바 없다.
니혼게이자이신문은 “한·일 정상회담을 앞두고 수출 관리를 포함한 양국 관계가 개선될 수 있을지 관심이 모인다”고 밝혔다.
22일 중국에서는 한·중·일 경제통상장관회의가 열린다. 성윤모 산업무 장관이 중국 베이징에서 가지야마 히로시 일본 경제산업상, 중산 중국 상무부장과 만나 3국 통상 현안에 대해 논의할 예정이다. 3자 회담뿐만 아니라 양국간 회담 시간도 마련돼 있다.
이어 청두에서는 문 대통령과 아베 총리의 정상회담이 예정돼 있다. 문 대통령과 아베 총리가 정식으로 회담하는 것은 지난해 9월 이후 약 1년 3개월 만이다.